Technische Regel Entwurf [ZURÜCKGEZOGEN]
VDI/VDE 3717 Blatt 2:1986-05 - Entwurf
Maskentechnik; Substrate
- Englischer Titel
- Mask engineering; substrates
- Ausgabedatum
- 1986-05
- Originalsprachen
- Deutsch, Englisch
- Seiten
- 8
- Ausgabedatum
- 1986-05
- Originalsprachen
- Deutsch, Englisch
- Seiten
- 8
Produktinformationen auf dieser Seite:
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Kurzreferat
Die Richtlinie beinhaltet die allgemeinen Anforderungen an den Träger für Hartschicht-Fotomasken. Sie entspricht weitgehend den von SEMI (Semiconductor Equipment and Materials Institute Incorporated) in den USA gemachten Standardisierungsvorschlägen. Es sind insbesondere Tabellen und Zeichnungen zu den Maßen und Eigenschaften abgedruckt.
Ersatzvermerk
Dokument wurde ersetzt durch VDI/VDE 3717 Blatt 2:1987-06 .
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