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Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen - Teil 2: Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Messzelle

Norm-Entwurf [ZURÜCKGEZOGEN]

DIN 50450-2:2025-07 - Entwurf

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen - Teil 2: Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Messzelle

Englischer Titel
Testing of materials for semiconductor technology - Determination of impurities in carrier gases and dopant gases - Part 2: Determination of Oxygen impurities in Nitrogen, Argon, Helium, Neon and Hydrogen using a galvanic cell
Erscheinungsdatum
2025-06-20
Ausgabedatum
2025-07
Originalsprachen
Deutsch
Seiten
9

ab 52,20 EUR inkl. MwSt.

ab 48,79 EUR exkl. MwSt.

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Erscheinungsdatum
2025-06-20
Ausgabedatum
2025-07
Originalsprachen
Deutsch
Seiten
9
DOI
https://dx.doi.org/10.31030/3624965

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Inhaltsverzeichnis

ICS

29.045, 71.100.20

DOI

https://dx.doi.org/10.31030/3624965
Ersatzvermerk

Dokument wurde ersetzt durch DIN 50450-2:2026-03 .

Änderungsvermerk

Gegenüber DIN 50450-2:1991-03 wurden folgende Änderungen vorgenommen: a) Inhaltsverzeichnis eingefügt; b) Einheit in µmol/mol geändert; c) im Abschnitt 10 die Berechnung der Messunsicherheit aufgenommen; d) im Abschnitt 11 Angaben im Prüfbericht ergänzt; e) Anhang A mit Beispiel zur Berechnung der Messunsicherheit aufgenommen; f) Literaturhinweise hinzugefügt; g) Dokument redaktionell überarbeitet.

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