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Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 7: Bestimmung von 31 Elementen in hochreiner Salzsäure mittels ICP-MS

Norm-Entwurf [ZURÜCKGEZOGEN]

DIN 50451-7:2017-02 - Entwurf

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 7: Bestimmung von 31 Elementen in hochreiner Salzsäure mittels ICP-MS

Englischer Titel
Testing of materials for semiconductor technology - Determination of traces of elements in liquids - Part 7: Determination of 31 elements in high-purity hydrochloric acid by ICP-MS
Erscheinungsdatum
2017-01-13
Ausgabedatum
2017-02
Originalsprachen
Deutsch
Seiten
14

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Erscheinungsdatum
2017-01-13
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2017-02
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Deutsch
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14

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Einführungsbeitrag

Dieser Norm-Entwurf legt ein Verfahren zur Bestimmung der für die Halbleitertechnologie wichtigen Elemente Ag, Al, As, Ba, B, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, In, K, Li, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Ni, Pb, Sb, Sr, Ti, V, W, Zn und Zr in Salzsäure im Spurenbereich fest, wobei als Bestimmungsverfahren die Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma als Ionenquelle (ICP-MS) eingesetzt wird.
Die beschriebenen Verfahren gelten für Metallspuren-Massenanteile von 100 ng/kg bis 10 000 ng/kg. Das Abdampfverfahren nach 5.3 ist auch auf andere verdampfbare Flüssigkeiten anwendbar, sofern die Wiederfindungsraten der Analyte zwischen 70 % und 130 % liegen.
Dieses Dokument (DIN 50451-7) wurde vom Arbeitsausschuss NA 062-02-21 AA "Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie" im DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP) erarbeitet.

Inhaltsverzeichnis

ICS

29.045
Ersatzvermerk

Dokument wurde ersetzt durch DIN 50451-7:2017-09 .

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