Norm [ZURÜCKGEZOGEN]

ISO 17109:2015-08

Chemische Oberflächenanalyse - Tiefenprofilanalyse - Verfahren zur Bestimmung der Sputterrate bei Sputtertiefenprofilanalyse mit Röntgenphotoelektronenmikroskopie, Augerelektronenmikroskopie, und Sekundärionenmassensprktometrie bei ein- und mehrlagigen Dünnschichten

Englischer Titel

Surface chemical analysis - Depth profiling - Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films

Ausgabedatum

2015-08

Barrierefreiheit

Zum Grad der Barrierefreiheit dieses Dokuments können wir zurzeit keine Angaben machen.

Noch nicht bestimmt

Barrierefreiheit noch nicht geprüft

E-Books

Bitte schauen Sie später noch einmal nach. Informationen zum Grad der Barrierefreiheit finden Sie hier spätestens, sobald das E-Book bestellbar ist.

Normen, Technische Regeln, E-Learnings und andere Angebote ohne Buchcharakter

Diese Produkte gehören nicht zum Anwendungsbereich des Barrierefreiheitsstärkungsgesetzes (BFSG §1, Abs. 3).

Originalsprachen

Englisch

Seiten

16