Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 9: Bestimmung von 40 Elementen in Wasserstoffperoxid mittels ICP-MS

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DIN 50451-9:2026-11 - Entwurf

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 9: Bestimmung von 40 Elementen in Wasserstoffperoxid mittels ICP-MS

Englischer Titel
Testing of materials for semiconductor technology - Determination of traces of elements in liquids - Part 9: Determination of 40 elements in hydrogen peroxide by ICP-MS
Erscheinungsdatum
2026-09-25
Ausgabedatum
2026-11
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Einführungsbeitrag

Dieses Dokument legt ein Verfahren zur Bestimmung der für die Halbleitertechnologie wichtigen Elemente Ag, Al, As, Au, Ba, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, Ge, In, Ir, K, La, Li, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Ni, Pb, Pt, Rh, Sb, Sn, Sr, Ta, Ti, Tl, V, W, Y, Zn und Zr in hochreinem Wasserstoffperoxid im Spurenbereich fest, wobei als Bestimmungsverfahren die Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma als Ionenquelle (ICP-MS, en: inductively coupled plasma mass spectrometry) eingesetzt wird. Das festgelegte Verfahren ist anzuwenden für Metallspuren-Massenanteile von 2 ng/kg bis 100 ng/kg. Dieses Dokument wurde vom Arbeitsausschuss NA 062-10-103 AA "Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie" im DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP) erarbeitet.

Inhaltsverzeichnis

ICS

29.045

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